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ChemEngineering

ISSN: 2305-7084   Frecuencia: 4   Formato: Electrónica

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Volumen 4 Número 0 Parte 3 Año 2020

Oseweuba Valentine Okoro, Adjoa Nkrumah Banson and Hongxia Zhang
 

Karen Maria Dietmann, Tobias Linke, Markus Reischer and Vicente Rives
 

Andreas Håkansson
 

Hanna Prokkola, Emma-Tuulia Nurmesniemi and Ulla Lassi
 

Éric Dumont, Solène Lagadec, Nadine Guingand, Laurence Loyon, Abdeltif Amrane and Annabelle Couvert
 

Éric Dumont, Solène Lagadec, Nadine Guingand, Laurence Loyon, Abdeltif Amrane, Valérie Couroussé and Annabelle Couvert
 

Adamu Musa Mohammed, Mostapha Ariane and Alessio Alexiadis
 

Martha L. Taboada, Nico Leister, Heike P. Karbstein and Volker Gaukel
 

Jiyoung Moon, Dela Quarme Gbadago and Sungwon Hwang
 

Jasmin Reiner, Kristin Protte and Jörg Hinrichs
 

Xinyi Mei, Wendy Zhao, Qiang Ma, Zheng Yue, Hamza Dunya, Qianran He, Amartya Chakrabarti, Christopher McGarry and Braja K. Mandal
 

Zheng Yue, Hamza Dunya, Maziar Ashuri, Kamil Kucuk, Shankar Aryal, Stoichko Antonov, Bader Alabbad, Carlo U. Segre and Braja K. Mandal