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ChemEngineering

ISSN: 2305-7084    Frecuencia: 4   Formato: Electrónica

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Volumen 4 Número 0 Parte 4 Año 2020

Jean-Aimé Mbey, Jean Mermoz Siéwé, Cyrill Joël Ngally Sabouang, Angelina Razafitianamaharavo, Sakeo Kong and Fabien Thomas
 

Wenxin Ji, Ning Feng, Pengde Zhao, Shiyue Zhang, Shasha Zhang, Liping Lan, Honglan Huang, Kangning Li, Yonggang Sun, Yuanyuan Li and Yulong Ma
 

Vanessa Gall and Heike P. Karbstein
 

Karin Schroën, Jolet de Ruiter and Claire Berton-Carabin
 

Jasmin Terreni, Andreas Borgschulte, Magne Hillestad and Bruce D. Patterson
 

Christoph Sinn, Jonas Wentrup, Jorg Thöming and Georg R. Pesch
 

Felix Johannes Preiss, Teresa Dagenbach, Markus Fischer and Heike Petra Karbstein
 

Yong X. Gan and Jeremy B. Gan
 

Md. Rakibul Islam, Jahida Binte Islam, Mai Furukawa, Ikki Tateishi, Hideyuki Katsumata and Satoshi Kaneco
 

Upinder Bains and Rajinder Pal
 

Ali Bahadar
 

Wenwei Liu and Chuan-Yu Wu